业展电子请求薄膜电阻结构及其加工办法专利改进调阻缺口邻近部分发热严峻的景象

来源:上海五星体育手机在线直播观看    发布时间:2025-01-31 02:21:30
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  金融界2024年12月19日音讯,国家知识产权局信息数据显现,深圳市业展电子有限公司请求一项名为“薄膜电阻结构及其加工办法”的专利,揭露号CN 119132764 A,请求日期为2024年9月。

  专利摘要显现,本发明揭露一种薄膜电阻结构及其加工办法,薄膜电阻结构包含本体和设置在本体上的焊盘取样点、调阻结构及导流结构,其间调阻结构包含调阻缺口,导流结构包含多排引导槽口,引导槽口依照导流途径的延伸方向布设,使得电流更为均匀地散布在本体遍地,削减电流集合在调阻缺口邻近的状况,然后改进调阻缺口邻近部分发热严峻的景象,提高产品的稳定性和精确性。

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